流片管家

国产等离子体刻蚀设备与PECVD系统自研厂商，科研级PECVD/刻蚀设备，服务高校科研

提供干法刻蚀(ICP/RIE)、湿法腐蚀等刻蚀代工服务，面向高校科研小批量MEMS器件加工

提供半导体材料、电子及信息技术领域技术咨询与科技服务，面向科研用户

超快激光微纳加工、无掩膜光刻、三维微纳加工/纳米3D打印代工服务，面向生物医学/微纳光学/光电通信等多领域

微纳代加工服务(光刻/热氧化/离子注入/镀膜沉积/刻蚀/晶圆键合/CMP/快速退火)，电子束光刻最小50nm，步进式光刻350nm，接触式光刻1um

飞秒激光直写系统、UV直写光刻系统、光谱测量系统，提供系统选型、样品验证和工艺开发支持

微纳飞科技位于国际化创新城市深圳，团队成员毕业于北京大学、清华大学、南京大学等高等学府，具有丰富的微纳器件研发和产业化经验。公司专注于新型微纳器件的定制设计开发、工艺验证、外协加工，以专业、严谨、高效的精神，精细化的全流程管理，为国内外合作伙伴提供高水平的技术服务与解决方案。

微纳工艺研发平台，NanoBeam电子束曝光机/SUSS紫外曝光机/ALD/磁控溅射/ICP刻蚀/RIE/快速退火，面向科研服务

提供6寸DUV/KrF光刻(180nm线宽)、电子束光刻、硅光/氮化硅/铌酸锂流片服务，面向高校科研小批量

综合性半导体工艺技术加工平台，1700平米超净工艺线，提供光...

覆盖电子束/KrF/双面光刻、磁控溅射/电子束蒸发/LPCVD薄膜、深硅/离子束/湿法刻蚀、晶圆键合、铜镍电镀、离子注入、氧化扩散、CMP全流程，支持4-8寸晶圆微纳器件制造

光刻版/掩膜版定制服务(最小线宽0.6微米，2-9英寸，最大...