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    芯辉半导体

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    MEMS流片代工,十余年代工经验,合作众多高校院所
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    光刻图形减薄划片
    上海右研科技有限责任公司

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    光刻版/掩膜版定制服务(最小线宽0.6微米,2-9英寸,最大...
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    光刻图形晶圆衬底
    上海交通大学先进电子材料与器件平台(AEMD)

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    覆盖电子束/KrF/双面光刻、磁控溅射/电子束蒸发/LPCVD薄膜、深硅/离子束/湿法刻蚀、晶圆键合、铜镍电镀、离子注入、氧化扩散、CMP全流程,支持4-8寸晶圆微纳器件制造
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    光刻图形
    旭量光学

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    飞秒激光直写系统、UV直写光刻系统、光谱测量系统,提供系统选型、样品验证和工艺开发支持
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    光刻图形
    苏州晶溯微纳科技

    苏州晶溯微纳科技

    苏州晶溯微纳科技有限公司是一家专注于MEMS器件设计与代工、器件封装、快速制版、测试服务及半导体材料销售的公司,并提供相关技术咨询服务。 公司拥有强大的MEMS设计与加工实力,拥有成熟的光刻、刻蚀、镀膜、键合、封装、测试等微纳加工技术。公司设备精良,性能卓越,能够开展多工艺合作开发,实现高效评估与高质量实施。同时,公司全流程收集实验数据,实施精细流程管理,提供优质服务。
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    光刻图形减薄划片# MEMS加工# MEMS器件设计与代工# 半导体材料厂家
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