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    Wonik IPS (元益IPS)

    Wonik IPS (元益IPS)

    韩国半导体设备商,1998年全球首次实现ALD设备量产,同时...
    270
    加工设备
    中微公司 AMEC

    中微公司 AMEC

    中国等离子体刻蚀设备领军企业,刻蚀机已覆盖5nm工艺,同时提...
    270
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    TEL (东京电子)

    TEL (东京电子)

    全球涂胶显影设备龙头(市占率约90%),同时覆盖刻蚀、成膜...
    250
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    ULVAC (爱发科)

    ULVAC (爱发科)

    日本真空设备巨头,提供PVD/CVD沉积、刻蚀及去胶设备
    270
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    Oxford Instruments (牛津仪器)

    Oxford Instruments (牛津仪器)

    英国科学仪器与工艺设备商,提供ICP/RIE刻蚀、深硅刻蚀及...
    240
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    PSK Inc

    PSK Inc

    韩国半导体设备商,干法去胶(Dry Strip)设备全球市场...
    280
    加工设备
    SPTS Technologies (KLA旗下)

    SPTS Technologies (KLA旗下)

    英国半导体设备商(已被KLA收购),提供DRIE刻蚀、PVD...
    250
    加工设备
    Lam Research (泛林半导体)

    Lam Research (泛林半导体)

    全球刻蚀设备市场份额第一,同时提供沉积和去胶设备
    300
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    Jusung Engineering (周星工程)

    Jusung Engineering (周星工程)

    韩国半导体设备商,专注ALD/CVD沉积及MOCVD设备
    260
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    Eugenus (Eugene Technology子公司)

    Eugenus (Eugene Technology子公司)

    韩国ALD/CVD沉积设备商,专注DRAM、3D NAND和...
    270
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    Hitachi High-Tech (日立高新)

    Hitachi High-Tech (日立高新)

    日本半导体设备商,提供刻蚀和薄膜沉积设备
    240
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    ASM International

    ASM International

    荷兰半导体设备商,ALD(原子层沉积)技术全球领先,同时提供...
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    Beneq

    Beneq

    芬兰ALD设备先驱,专注原子层沉积研发与量产设备,覆盖半导体...
    280
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    芯源微

    芯源微

    国内唯一可提供与光刻机联机的中高端涂胶显影设备厂商,同时覆盖...
    290
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    芯碁微电子

    芯碁微电子

    国产直写光刻设备龙头,覆盖PCB/IC载板/先进封装/掩模版...
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